Ref. 14 American Enterprise Institute — "China's DUV Lithography Loophole" (abril/2026)
Trecho consolidado
"Um relatório do American Enterprise Institute publicado em abril de 2026 identificou uma lacuna fundamental nos controles de exportação de semicondutores dos EUA, observando que a China adquiriu aproximadamente 90 máquinas ArFi em 2024, no valor de US$ 5–7 bilhões — todas antes de qualquer restrição sobre ferramentas DUVi. SMIC e Huawei estão reaproveitando máquinas DUV imersivas para produzir chips de IA próximos da fronteira via multi-patterning, contornando efetivamente as sanções dos EUA."
Contexto e relevância para o PACID
O relatório do American Enterprise Institute — instituição conservadora norte-americana, portanto sem viés pró-China — confirma a viabilidade técnica e a permissividade comercial atual da estratégia DUV de 7nm. O PACID se beneficia desta janela de oportunidade ao propor parceria com a China para transferência de tecnologia DUV antes que eventuais restrições adicionais sejam impostas.
Fonte original
abhs.in/blog/china-duv-lithography-loophole-smic-huawei-near-frontier-chips-aei-april-2026
Como esta referência é usada no PACID
Citada no Eixo 3 (seção "Contrapartida industrial") como fonte de confirmação da viabilidade técnica.